中国で初めて独自の知的財産権を持ち、世界先端レベルの技術を要する直接描画露光装置が25日、合肥で公開された。サブミクロンレベルの露光装置は中国ではこれまですべて輸入に依存してきたが、国内でも開発が可能になった。写真は中国初の独自開発による露光装置を操作する研究員。

  「人民網日本語版」2007年12月27日