世界トップレベルで独自の知的財産権を持つ中国初の非マスクアライナ（直写式）光リソグラフィ設備が合肥市で完成した。専門家の鑑定によると、同製品は世界でも先端レベル、解像度はサブミクロンに達し、安定した性能を誇り、中国における光リソグラフィ技術の空白を埋めるものだという。同製品は性能と解像度の双方を重視すると同時に、コストを大幅に引き下げており、その価格は海外の類似製品の3分の1以下だ。光リソグラフィは半導体チップの生産の柱だが、現在中国では半導体設備製造業が半導体・集積回路産業チェーンにおける最も弱い部分となっている。

  「人民網日本語版」2008年1月14日