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発信時間：2021-05-10 13:41:55 | チャイナネット | 編集者にメールを送る

　8日の国務院政策定例記者会見で発表された情報によると、中国は引き続き特許審査及び商標登録期間の短縮に取り組む。年内に高価値特許出願申請期間を13.8カ月に短縮し、一般商標登録の期間を7カ月に短縮する。

　国家知識産権局公共サービス司の王培章司長は、「中国は近年、手続きの簡略化、フローの最適化、審査人員の十分な確保、情報化建設の強化といった各種手段により、持続的に知的財産権審査期間を短縮している」と述べた。第13次五カ年計画期間中（2016-20年）、商標登録平均審査期間は9カ月から4カ月に、発明特許審査期間は22カ月から20カ月に、高価値特許審査期間は21カ月から14カ月に短縮された。

　「中国網日本語版（チャイナネット）」2021年5月10日

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